H
hmsheng
Guest
문제 :
두 같은 고리 VCOs 레이아웃에 배치하는 측면 측면을합니다.불일치가 매우 작은 그럴만도 그들은해야하기 때문에이 같은 성능을 동일한 장치와 공정 veriation 레이아웃 있도록 장소에있는 회로가 정확하게 동일하고 그들은 거의 없습니다 배치.하지만 테스트 결과가 표시됩니다 아니 겠죠.두 VCO를 주파수를 가지고 진동 차이 센터!
내가 분석 카를로 몬테이로 원하는 시뮬레이션할 수 있습니다.카를로 분석 몬테 유사 콘텐츠가 모두 포함 프로세스 또는 불일치 또는.내 생각은 반지 VCOs 공정이 두 나라의 차이에 영향을 유사해야했다 적은 같은 칩 때문에 그들이와 함께 배치할 수있었습니다.하지만 두 VCO를 장치 차이의 성능에 영향을 많이 일치해야했다.
프로세스 변화와 불일치 유사 몬테카를로 분석, 다 였지만 결과를 differenct했다 마하합니다.의 주파수는 VCO를 중심 유사 배포 프로세스를 가우스 있습니다.하지만 VCO를 함께 불일치 주파수의 중심 몬테카를로 anaysis 가치가 단 하나.그것은 일치하지 아니 것으로!왜???설치가 몬테카를로에 뭔가 문제가있는?
두 같은 고리 VCOs 레이아웃에 배치하는 측면 측면을합니다.불일치가 매우 작은 그럴만도 그들은해야하기 때문에이 같은 성능을 동일한 장치와 공정 veriation 레이아웃 있도록 장소에있는 회로가 정확하게 동일하고 그들은 거의 없습니다 배치.하지만 테스트 결과가 표시됩니다 아니 겠죠.두 VCO를 주파수를 가지고 진동 차이 센터!
내가 분석 카를로 몬테이로 원하는 시뮬레이션할 수 있습니다.카를로 분석 몬테 유사 콘텐츠가 모두 포함 프로세스 또는 불일치 또는.내 생각은 반지 VCOs 공정이 두 나라의 차이에 영향을 유사해야했다 적은 같은 칩 때문에 그들이와 함께 배치할 수있었습니다.하지만 두 VCO를 장치 차이의 성능에 영향을 많이 일치해야했다.
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