레이아웃"FABRICATION

[installer2001]

안녕 천재들

PLZ PLZ 도움이 내가 통해 UR 긴급한 도움이 필요합니다질문에 관한 FABRICATION왜 이온 주입 확산 과정 우수 무엇입니까?
무슨 조작 현대 BJT의 매우 높은 주파수에서 작동할 수 있도록 조치 촬영?
왜 많은 ICS의 제조에서 레이어 epitaxial 성장의 필요성이
무슨 BiCMOS 공정의 장점은 다른 제조 공정에인가?PLZ PLZ 도움이

 

[stuck_adc]

에스엠 ZEE 당신이 모든 해답을 찾을 수 있으며, 자사의 매우 좋은 아이디어에 대한 심층적인 제조 공정과 좋은 비교 결과도 제공합니다.

 

[Guest]

[No message]

 

[Guest]

때문에 더 정확하고 이온 주입 확산 공정에 우수합니다.입자를 실리콘으로 상상 ...그대와 함께 이온 주입 가서 "더 똑바로"difusion 동안 함께, 그들은 또한 옆으로 difuse - 그리고 당신을 원치 않아요.
(디지털에 대한 더 나은 BiCMOS의 장점도의 CMOS 있는데, 작고, 적은 전력을 소모 죄수) 및 아날로그 (더 나은 - 대부분의 경우 바이폴라, 적은 노이즈 - 예 수신기)를 더 있지만 더 비싼 BiCMOS입니다!

 

[JVNPAVANKUMAR]

웨이퍼를 조작 대부분의 에피 프로세스를 사용하는 주된 이유는 그들이 latchup 문제를 피할 수있습니다

 

[forkschgrad]

BiCMOS 때문에 두 바이폴라 및 존재의 특성이있다.당신이 파워 IC를 설계할 수 승 / 낮은 전력 소모.